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晶体生长炉LFT1600C 20VIM VT

更新时间:  2026-01-27

产品型号:  

产品报价:  

所  在  地:  合肥市新站区颖河路22号

产品特点:  晶体生长炉可用于多晶锭的定向凝固,通过控制温度梯度、物质传输速率及生长参数,实现单晶的高效、高质量生长,适用于碳化硅、单晶硅等材料的制备。

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产品概述

一、简要介绍

晶体生长炉可用于多晶锭的定向凝固,通过控制温度梯度、物质传输速率及生长参数,实现单晶的高效、高质量生长,适用于碳化硅、单晶硅等材料的制备

该设备主要由设备主体、炉管法兰组件、控制面板、感应线圈移动机构、物料升降机构、高真空系统、水冷机等组成。

该设备设计温度为1500℃,PID 程序控温(自整定调节 30段可调程序控温);

感应线圈可升降可更换圈数,移动行程:200mm,移动速度:1-3mm/h;

内含载物坩埚,坩埚配有升降机构,最大行程:200mm,有热电偶实时测温;

晶体生长炉LFT1600C 20VIM VT

二、技术参数

型号

LFT1600C20VIM VT

设备重量

220KG

外型尺寸(长*深*高)

725*1125*1790mm

输出功率

20KW

震荡频率

200-500KHZ

加热电流

2.8-28A

输入电压

三相 380V 50HZ

负载持续率

100%(24小时连续工作)

控温方式

PID控制

测温方式

热电偶测温(可调节测温距离)

设计温度

1500℃

炉管尺寸

Φ80*500mm

感应线圈

DN80,1/2/3匝

线圈移动行程

200mm

线圈移动速度

1-3mm/h

样品升降行程

200mm




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