薄膜材料制备广泛用于:真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，法兰以卡箍密封，安装拆卸简便快捷，是各大材料实验室的理想设备之一。

PECVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。

设备描述：CVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。各通道气路的流量设定和状态显示都集中在一个7“的触摸屏上，同时可以实时查看气体流量曲线和数据。此款设备广泛的用于材料界中CVD实验和各种材料的退火实验。

设备描述：CVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。各通道气路的流量设定和状态显示都集中在一个7“的触摸屏上，同时可以实时查看气体流量曲线和数据。此款设备广泛的用于材料界中CVD实验和各种材料的退火实验。

设备描述： CVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。各通道气路的流量设定和状态显示都集中在一个7“的触摸屏上，同时可以实时查看气体流量曲线和数据。此款设备广泛的用于材料界中CVD实验和各种材料的退火实验。

化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温；PLC控制5路质子流量器，能够精确控制系统的供气；真空泵可实现对管式炉快速抽真空。CVD（化学气象沉积系统）常用于表面材料生长、沉积，是一款实验室常用设备技术参数