真空气氛箱式炉 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30 段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。

高温热处理设备是一款小型混合箱式/管式炉，作为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理，作为管式炉可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理

LMF系列真空气氛箱式炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝纤维材料，采用进口合金电阻丝为加热元件。是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对金属，非金属及其它化合物材料进行烧结﹑融化﹑分析而研制的专用设备。