双温区立式管式炉如图所示，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件，用于催化剂焙烧，方便催化剂装填和转移。

LFM系列坩埚熔炼炉设计用于电子元件、玻璃、陶瓷粉料的预烧、烧结，亦可作为其它陶瓷产品、稀土元件、磁性材料等的烧成之用。保温材料采用高纯轻质氧化铝纤维，30段PID程序温控仪控制；具有升降温速率调整范围大、生产效率高、节能等特点，设备外型美观，非常适合于科研单位批量生产，也能满足一定条件下产能要求。

真空提拉炉LFT1700C100D80-TSSGVC-2设备为真空或者气氛保护条件下的提拉设备，样品处理位于刚玉管内，刚玉管两端均有真空法兰密封。上端通过压缩波纹管和真空旋转接头与电机相连。可满足样品在真空或者气氛条件下的旋转和提拉。

催化反应炉LFT1200C300D10 III炉体小巧，升温速度极快，它不仅可以抽真空,也可以通气体保护，其结构使得拆装炉管方便，操作简捷，设备配有观察窗口，透明石英管腔体可直观的观察到内部工作状态，配合气路，等离子体等实验条件，可用于CO₂还原、催化合成氨及氨分解等反应。是一款性价比高的快速升降温炉。

立式淬火炉 LFT1500C 50D30 OP如图所示，炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用硅碳棒为加热元件。该设备设计为立式结构，样品由吊丝固定,真空腔室上端配有电磁铁固定吊丝,可在真空条件下完成淬火工作。

1700系列单温区真空提拉炉设备为真空或者气氛保护条件下的晶体生长设备，样品处理位于刚玉管内，刚玉管两端均有真空法兰密封。上端通过压缩波纹管和真空旋转接头与电机相连。可满足样品在真空或者气氛条件下的旋转和提拉。

金属管回转炉LFT1200C800D200IIR设备主要适用于粉末材料在高温条件下热处理或者粉末材料的表面材料生长。该旋转管式炉，具备在持续通入气体的条件下，炉管可被旋转加热，并保证气体不泄露。

煅烧炉LFT1200C Ф40如图所示，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，加热元件为优质硅碳棒。