真空气氛箱式炉 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺,也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热,PID程序控温仪控制,温控仪可设定30 段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。
查看详情LMF系列真空气氛箱式炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝纤维材料,采用进口合金电阻丝为加热元件。是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对金属,非金属及其它化合物材料进行烧结﹑融化﹑分析而研制的专用设备。
查看详情多面加热箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料,工作温度能达到1100℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃;大功率为1KW, 同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛条件下烧结样品,是高校、科研院
查看详情定制箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料,工作温度能达到1100℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃;大功率为1KW, 同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛条件下烧结样品,是高校、科研院
查看详情真空气氛箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料,工作温度能达到1100℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃;大功率为1KW, 同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛条件下烧结样品,是高校、科研院
查看详情1200箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料,工作温度能达到1100℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃;大功率为1KW, 同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛条件下烧结样品,是高校、科研院
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