品质是生命,服务是宗旨

Quality is life, service is the tenet

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  1. 真空气氛箱式炉

    真空气氛箱式炉 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺,也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热,PID程序控温仪控制,温控仪可设定30 段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。

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  2. 高温热处理设备

    高温热处理设备是一款小型混合箱式/管式炉,作为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理,作为管式炉可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理

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  3. 真空气氛箱式炉

    LMF系列真空气氛箱式炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝纤维材料,采用进口合金电阻丝为加热元件。是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对金属,非金属及其它化合物材料进行烧结﹑融化﹑分析而研制的专用设备。

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  4. 高温高压合成炉

    高温高压合成炉设备是根据SHS技术发展的新动向而研制的,采用了许多较新的科技成果,集许多功能于一身,设计使用性能优良,具有很好的应用前景和使用价值。

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  5. 多面加热箱式炉

    多面加热箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料,工作温度能达到1100℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃;大功率为1KW, 同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛条件下烧结样品,是高校、科研院

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  6. 定制箱式炉

    定制箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料,工作温度能达到1100℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃;大功率为1KW, 同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛条件下烧结样品,是高校、科研院

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  7. 气氛箱式炉

    真空气氛箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料,工作温度能达到1100℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃;大功率为1KW, 同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛条件下烧结样品,是高校、科研院

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  8. 1200箱式炉

    1200箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料,工作温度能达到1100℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃;大功率为1KW, 同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛条件下烧结样品,是高校、科研院

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