主要适用于粉末材料在高温条件下热处理或者粉末材料的表面材料生长，该回转加热系统集控制系统与炉膛为一体。炉膛使用高纯氧化铝纤维材料，采用电阻丝为加热元件。加热系统设计为上下可开启式结构，方便观察石英管以及物料的状态。

薄膜材料制备广泛用于:真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，法兰以卡箍密封，安装拆卸简便快捷，是各大材料实验室的理想设备之一。

该系统为 PECVD系统，它包括真空管式炉系统、石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、匹配器，温度范围宽：100-1100度可调。适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等