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化学气相沉积设备

更新时间:  2024-04-07

产品型号:  CVD

产品报价:  

所  在  地:  合肥市新站区颖河路22号

产品特点:  化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温;PLC控制5路质子流量器,能够精确控制系统的供气;真空泵可实现对管式炉快速抽真空。CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积,是一款实验室常用设备技术参数

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产品概述

化学气相沉积设备技术参数

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

双温区滑轨炉LFT1200C-II 200D50-5Z

炉体结构

 该化学气相沉积设备采用双层壳体并带有风冷系统,使其炉体表面温度都小于55℃

 炉底安装一对滑轨,可手动滑动,以便满足特殊工艺的快速升降温的求。

炉管尺寸

Φ50/60/80/100×1400mm(可提供特殊定制。)

功率

5kW

输入电压

220VAC 单相 50/60Hz

加热元件

Cr27Al7MO2(掺钼铁铬铝合金)

zui高温度

zui高温度:1200℃ 

额定温度:1100℃

升温速率

 ≦10℃/min(推荐)

加热区长度度

    化学气相沉积设备两个加热区的长度都是200mm

    分别由独立的温控系统控制

恒温区长

     100+100mm(±1℃)

     可获得较长恒温区间

控温精度

     ±1℃

快速连接法兰

     Φ50快结式不锈钢真空法兰

     打开法兰直接卸下卡箍即可,取放样品方便
  另配备有可调节高度的法兰支架

 

 

 

 

 

五路质子流量控制系统

MFC-5Z

 

电压

 220VAC  单相  50/60Hz

针阀材质

 316不锈钢

量程

 50sccm、100sccm、500sccm、500sccm、500sccm(可根据工艺要求提供多种量程选择)

工作温度

 5~45℃

外型尺寸

 600(L) x 600(W) x 700(H) mm

电压

 AC220V/50Hz单相

功率

 23W

 

 

 

 

真空系统

LVU-10

壳体尺寸

     600 (L) x 600 (W) x 700(H)mm

zui大承载量

     1000 Lbs 

抽气速率

      10m³/h

    极限真空度:10-1Pa

    双层立式油污过滤器(PE材质)与真空泵连接

质保期

一年质保期,相关耗材除外,如炉管,密封圈加热元件等易耗件

 

 

 

 

使用注意事项

     炉管内气压不可高于0.02MPa     

    当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

    石英管的长时间使用温度<1100℃

    对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

 

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