气氛箱式炉是常用于热处理工艺的设备，可以在特定气氛环境下对材料进行加热处理。由加热腔体和加热系统、温度控制系统、气氛控制系统组成。加热腔体一般由耐火材料制成，具有良好的保温性能。加热系统通常采用电加热器或燃气加热器，通过加热器向腔体提供热能。温度控制系统用于监测和控制加热腔体的温度，确保加热过程中温度稳定。气氛控制系统则用于调节加热腔体内的气氛成分。
 

　　气氛控制通常分为氧化性气氛和还原性气氛两种。在加热腔体内维持一定的气氛成分，可以改变材料的化学性质，如氧化、还原等反应。例如，在还原性气氛下，可以将氧化物还原成金属，或实现材料的表面硬化。
 

　　气氛箱式炉是一种可以控制炉内气氛的热处理设备，广泛应用于以下领域：
 

　　1.金属热处理：用于各种金属材料的热处理工艺，如退火、正火、淬火、回火、固溶等。炉内控制的气氛可以调节金属材料的表面质量、组织结构和物理性能。
 

　　2.陶瓷烧结：控制炉内的气氛成分，从而影响陶瓷材料的烧结效果。通过调节气氛气气氛箱内压力和含气量，可以改变陶瓷材料的颜色和光泽。
 

　　3.玻璃加工：控制气氛成分，可以减少玻璃制品表面的氧化反应，改善玻璃制品的质量和透明度。
 

　　4.半导体制造：可以通过控制炉内气氛成分来实现对半导体材料的精确控制，如控制半导体材料的杂质浓度、晶体形态和晶格缺陷。
 

　　5.化学反应：可以提供受控的气氛环境，用于各种化学反应的加热处理，如催化剂的还原、氧化和活化处理等。