真空提拉炉LFT1700C100D80-TSSGVC-2设备为真空或者气氛保护条件下的提拉设备,样品处理位于刚玉管内,刚玉管两端均有真空法兰密封。上端通过压缩波纹管和真空旋转接头与电机相连。可满足样品在真空或者气氛条件下的旋转和提拉。
查看详情立式淬火炉 LFT1500C 50D30 OP如图所示,炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,采用硅碳棒为加热元件。该设备设计为立式结构,样品由吊丝固定,真空腔室上端配有电磁铁固定吊丝,可在真空条件下完成淬火工作。
查看详情1700系列单温区真空提拉炉设备为真空或者气氛保护条件下的晶体生长设备,样品处理位于刚玉管内,刚玉管两端均有真空法兰密封。上端通过压缩波纹管和真空旋转接头与电机相连。可满足样品在真空或者气氛条件下的旋转和提拉。
查看详情单温区立式滑轨炉设计为立式结构,炉体可电动滑动。预升温的管式炉可快速移动到样品区,实现样品快速升温反应。也可程序控制升温,实验扩张性好。反应气体自上而下,炉管下端通过磨砂口密封和下端出气口相连,经过冷却槽后将多余气体排出。
查看详情大口径高温高压芯片退火管式炉设备用于较大尺寸(最大尺寸为8英寸)衬底退火处理,设备采用电阻丝为加热元件,保温材料为氧化铝纤维炉膛真空吸附成型,电阻丝为内嵌式一体成型;该设备还集成了真空以及供气系统。
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