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碳纳米膜制备设备

更新时间:  2024-05-21

产品型号:  LFT1400C 800D802Z

产品报价:  

所  在  地:  合肥市新站区颖河路22号

产品特点:  碳纳米膜制备设备如图所示,由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统,红外烘干系统等组成。

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产品概述

一、结构简介


碳纳米膜制备设备如图所示,由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统,红外烘干系统等组成。生长炉的最高温度1400℃,并可在0-1400℃之间连续可调,垂直式分布热场,三点控温(三段长度平均分配),设备顶部设有注液口、导流器。炉体采用双层壳体结构并带有风冷系统,保温材料为加厚型,壳体表面温度小于60℃。采用高纯氧化铝管作为炉膛材料,加热元件为优质硅碳棒。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点。

碳纳米膜制备设备

二、性能参数                                                                                                                                                                

型号

LFT1400C 800D802Z

额定功率

18KW

额定电压

AC380V

最高温度

1400℃

额定温度

1300℃

推荐升温速率

1400℃以下≤10℃/min

炉管尺寸

(可根据客户要求订制)

刚玉管Φ8 1400mm

外型尺寸(长×深×高)

1680*700*2560mm

控温精度

±1℃

极限真空度(选件)

1.0×10-3Pa(机械泵+分子泵)

加热元件

硅碳棒

重量

230KG

客户自配装空气开关

40A



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