卧式真空热处理炉 LFT1200 400D60-VIII-HVK设备设计为高通量实验使用,设备有8套独立的温控系统沟通,8根独立的石英管可同时参试8组不同实验,并配有独立的真空装置和进气装置,大大提高实验效率。同时8管炉为整体设计,减少占地空间,提高实验室空间利用。
查看详情此井式坩埚炉设备是集控制系统与炉膛为一体,炉膛是使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,采用电阻丝为加热元件,最高发热温度可达1200℃。采用双层壳体结构,配有风冷系统,使得壳体表面的温度小于60度。炉膛材料采用高纯氧化铝多晶纤维,保温耐用,高效节能50%。
查看详情1200系列六温区真空回转炉主要适用于中小批量粉末材料在高温条件下热处理或者粉末材料的表面生长,该回转加热系统集控制系统与炉膛为一体。炉膛使用高纯氧化铝纤维材料,采用优质硅碳棒为加热元件,炉膛材料为高纯氧化铝纤维,保温性能更好。
查看详情大口径高温高压芯片退火管式炉设备用于较大尺寸(最大尺寸为8英寸)衬底退火处理,设备采用电阻丝为加热元件,保温材料为氧化铝纤维炉膛真空吸附成型,电阻丝为内嵌式一体成型;该设备还集成了真空以及供气系统。
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