三温区真空气氛回转炉CVD系统 是集三温区真空回转炉、三路质量流量计系统及低真空机组而成一种动态状态下的化学气相沉积系统。三温区开启式真空回转管式炉采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。

（含预热器）双温区滑轨式CVD系统 双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温；PLC控制5路质子流量器，能够精确控制系统的供气；真空泵可实现对管式炉快速抽真空。CVD（化学气象沉积系统）常用于表面材料生长、沉积，是一款实验室常用设备

LVU-10低真空系统 其极限真空度为10-1Pa， 内部安装有双级旋片机械泵BSV-10配套使用，其接口为KF25，并配有真空连接管路一套，电阻真空计ZDR-I和连接管道接头等。

MFC-5Z多通道质量流量控制系统 是一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。

2通道质量流量控制系统MFC-2Z 是一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。

LFM1200C-1微型箱式炉 是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料，高温度能达到1100℃，可连续工作1000℃，控温精度±1℃；

LFM1400系列48L箱式炉是以硅碳棒为加热元件、采用S型热电偶和30段可编程温度控制器。侧开门结构，方便客户放取样品；炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料，高温度能达到1500℃，可连续工作1400℃，控温精度±1℃；

LFT1200C小型真空管式炉 主要行业有稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。