1.采用高纯氧化铝作为炉膛材料，减小能量损失。

 

　　2.炉管采用单端封口设计，顶端安装有不锈钢金属法兰，实验可在真空和气氛条件下完成。

 

　　操作方式

 

　　针对实验室的使用要求，装卸料采用间歇式手动装、卸料。装料时将料盒放置在料盆支架上，打开并取出炉管一端的密封端盖，放入带料盒的料盒支架，再将密封端盖安装在炉管法兰上并拧紧卡箍螺栓。然后通入工艺气氛，直到炉管内氧含量达到工艺要求时进行升温烧结。产品烧结工艺完成后，应继续通人小量的工艺气氛并进行降温，直到炉内温度低于工艺要求时，方可打开炉管密封端盖取出产品。

 

　　立式管式炉的气体流量控制系统。通过浮子或质量流量控制器调节进气量，以满足用户在不同反应气氛或保护气氛条件下的实验要求。

 

　　组成的CVD系统主要应用在新型材料测试，氧化锌纳米结构的可控生长、荧光粉材料、金属材料、半导体材料、陶瓷材料、电化学、薄膜材料、石墨烯、碳纳米管、纳米线等领域。产品外观美观，使用方便。

 

　　适用范围：

 

　　立式管式气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。